Chemisorption und Zerfall der Wassermolekel an reinen Nickeloberflächen bei niedrigen Temperaturen
Author:
Publisher
Wiley
Subject
General Chemical Engineering
Link
http://onlinelibrary.wiley.com/wol1/doi/10.1002/bbpc.19640680515/fullpdf
Reference5 articles.
1. Änderung von Elektronen-Austrittspotential und elektrischem Widerstand aufgedampfter Filme der Metalle Fe, Ni, Cu, Zn, Pd, Ag durch Adsorption von Benzol bei 90°K
2. Beeinflussung von Elektronen-Austrittspotential und elektrischem Widerstand dünner Nickelfilme durch die Chemisorption von Kohlendioxyd
3. Die Schichtdicken- und Temperaturabhängigkeit der Adsorption von Kohlenmonoxid an aufgedampften Nickelfilmen und der dabei auftretenden Widerstandsänderungen*
4. Ermittlung der elektronischen Wechselwirkung zwischen adsorbierten Fremdmolekeln und der Oberfläche dünner Nickelschichten bei niedrigen Temperaturen durch elektrische Widerstandsmessungen.*
5. Über den zeitlichen Verlauf der Chemisorption von Wasserdampf und Kohlendioxyd an aufgedampften, durchsichtigen Nickelfilmen
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2. General features of lattices of point dipoles against a charged wall;The Journal of Chemical Physics;1990-05-15
3. The Behavior of Water on Metal Surfaces;Catalysis Reviews;1988-06
4. Adsorption of Water Molecules on Clean and Oxygen Precovered Copper Films;Zeitschrift für Physikalische Chemie;1988-01-01
5. Atomization mechanisms for barium in furnace atomic absorption spectrometry;Analytical Chemistry;1984-06-01
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