Compositional gradients at the nanoscale in substoichiometric thin films deposited by magnetron sputtering at oblique angles: A case study on SiO x thin films

Author:

Garcia‐Valenzuela Aurelio1,Alcaide Antonio M.1,Rico Victor1,Ferrer Francisco J.23,Alcala German4,Rojas Teresa C.1,Alvarez Rafael15ORCID,Gonzalez‐Elipe Agustin R.1ORCID,Palmero Alberto1

Affiliation:

1. Materials Science Institute of Seville CSIC‐Universidad de Sevilla Seville Spain

2. Centro Nacional de Aceleradores CSIC‐Universidad de Sevilla Seville Spain

3. Departamento de Física Atómica, Molecular y Nuclear Universidad de Sevilla Seville Spain

4. Departamento de Ingeniería Química y de Materiales, Facultad de Ciencias Químicas Universidad Complutense de Madrid Madrid Spain

5. Departamento de Física Aplicada I. Escuela Politécnica Superior Universidad de Sevilla Seville Spain

Funder

Ministerio de Ciencia e Innovación

Comunidad de Madrid

Consejería de Economía, Innovación, Ciencia y Empleo, Junta de Andalucía

Consejo Superior de Investigaciones Científicas

Universidad de Sevilla

Publisher

Wiley

Subject

Polymers and Plastics,Condensed Matter Physics

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