Efficient silicon nitride SiN x :H antireflective and passivation layers deposited by atmospheric pressure PECVD for silicon solar cells

Author:

Lelièvre Jean‐François1ORCID,Kafle Bishal2,Saint‐Cast Pierre2,Brunet Paul1,Magnan Romain1,Hernandez Emmanuel1,Pouliquen Sylvain3,Massines Françoise1

Affiliation:

1. PROMES CNRS UPR 8521, Tecnosud, Rambla de la thermodynamique 66100 Perpignan France

2. Fraunhofer Institute for Solar Energy Systems Heidenhofstrasse 2 79110 Freiburg Germany

3. Air LiquideParis‐Saclay Research Center 1 chemin du bas de la porte des Loges 78350 Jouy en Josas France

Funder

Agence de l'Environnement et de la Maîtrise de l'Energie

Bundesministerium für Wirtschaft und Energie

Publisher

Wiley

Subject

Electrical and Electronic Engineering,Condensed Matter Physics,Renewable Energy, Sustainability and the Environment,Electronic, Optical and Magnetic Materials

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