Abstract
AbstractUnter Ultrahochvakuumbedingungen werden Nickelfilme von etwa 100 Å Dicke und bekannten kristallographischen Eigenschaften hergestellt und mit Wasserstoff oder Deuterium vollständig oder teilweise belegt. Bei 77 °K, 150 °K, 195 °K und 273 °K wird versucht, in einem diskontinuierlichen Eluierungsverfahren den Wasserstoff durch Deuterium bzw. das Deuterium durch Wasserstoff zu ersetzen. Das gelingt bei 273 °K und 195 °K vollständig, bei 150 °K nur etwa zu 80% und bei 77 °K zu nur 3%. Es kann gezeigt werden, daß bei 273 °K und 195 °K die gesamte, bei 77 °K nur die physisorbierte Adsorptionsphase am Gleichgewicht mit der Gasphase teilnimmt. Bei 150 °K beteiligen sich ‐ unabhängig vom Ausmaß der Belegung ‐ etwa 80% der Chemisorptionsphase an diesem Gleichgewicht, der Rest nicht. Die beiden sich hierdurch zu erkennen gebenden Adsorptionszustände dürften auf die a‐priori‐Heterogenität der Adsorbensoberfläche zurückzuführen sein, sie sind nicht identisch mit den beiden Zuständen ß1 und ß2, die aus den Desorptionsspektren zu entnehmen sind. Alle Ergebnisse weisen darauf hin, daß das Deuterium etwas fester vom Nickel adsorbiert wird als der Wasserstoff.
Subject
General Chemical Engineering
Cited by
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