Über die Elektronenbeanspruchung bei der Chemisorption des Benzols an Nickel bei tiefen Temperaturen

Abstract

AbstractIn Fortführung früherer Untersuchungen werden die Änderungen des elektrisches Widerstandes R and der lichtelektrischen Empfindlichkeit I ermittelt, die an aufgedampften Ni‐Filmen durch die Chemisorption von Benzoldampf niedrigen Druckes (10−4 bis 10−1 Torr) bei 90 °K hervorgerufen werden. Sowohl R als auch I nehmen zu, entsprechend einer kovalenten Bindung der Benzolmolekeln am Ni‐Film. Aus der Abhängigkeit der Werte ΔR von der gemessenen adsorbierten Menge wird die monomolekulare Bedeckung zu 55 · 1013 Molekeln pro cm2 Makrooberfläche berechnet. Der Rauhigkeitsfaktor der Filmoberfläche berechnet sich zu 2,2. Die adsorbierte Menge n, die Widerstandsänderung ΔR/R und die Zahl der Ni‐Atome des Films ergeben eine Beanspruchung von 6,3 Leitungselektronen pro Benzolmolekel. Der zeitliche Übergang von der physikalischen Adsorption zur Chemisorption läßt sich durch Reaktionen 2. und 1. Ordnung wiedergeben.