Kollektorbeschichtungen für die EUV-Lithografie-Reference-Cited by-同舟云学术

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Kollektorbeschichtungen für die EUV-Lithografie

Published:2010-08-02 Issue:4 Volume:22 Page:17-21
ISSN:0947-076X
Container-title:Vakuum in Forschung und Praxis
language:en
Short-container-title:Vakuum in Forschung und Praxis

Author:

Perske Marco,Pauer Hagen,Yulin Sergiy,Trost Marcus,Schröder Sven,Duparré Angela,Feigl Torsten,Kaiser Norbert

Publisher

Wiley

Subject

Surfaces, Coatings and Films,Condensed Matter Physics

Reference13 articles.

1. http://www.asml.com/asml/show.do?ctx=5869&rid=38919

2. http://www2.wu-wien.ac.at/computing07//images/20_jhd/tradic.jpg

3. http://www.engineering.ualberta.ca/images/finger.JPG

4. http://www.intel.com/technology/mooreslaw/index.htm

5. http://www.iof.fhg.de/departments/opticalcoatings/_media/mosi.jpg

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Coatings with barrier layers for extreme‐short wavelengths;Vakuum in Forschung und Praxis;2021-10

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