Development of Two-Layer Resist Technology for the Halftone Mask

Author:

YAMAMOTO Masashi,KATO Hiroki,KONO Akihiko,HORIBE Hideo

Publisher

Society of Polymer Science, Japan

Subject

Polymers and Plastics,General Environmental Science,Materials Science (miscellaneous),Chemical Engineering (miscellaneous)

Reference9 articles.

1. 1) 川野健二, 浅野昌史, 岩松孝行, 田中 聡, 伊藤信一, 大西廉信, 電子情報通信学会ソサイエティ大会講演論文集, エレクトロニクス, 2, (1995), p. 151.

2. 3) 堀邊英夫, 高松慎也, 市川智知, 特開平 18-30971 (2006).

3. Developments of Multilayer Resist Technology for the Halftone Mask

4. Development of Multilayer Resist Technology for Halftone Mask in Liquid Crystal Display Manufacturing

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