Source Optimization in Optical Lithography-Reference-Cited by-同舟云学术

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Source Optimization in Optical Lithography

Published:2011-09-20 Issue:2 Volume:128 Page:144-158
ISSN:0022-2526
Container-title:Studies in Applied Mathematics
language:en
Short-container-title:

Author:

Barouch E.,Orszag S. A.

Publisher

Wiley

Subject

Applied Mathematics

Link

http://onlinelibrary.wiley.com/wol1/doi/10.1111/j.1467-9590.2011.00532.x/fullpdf

Reference10 articles.

1. Optimal photomask printability using interactive OPC with a new calibration methodology;Barouch;Proc. SPIE,2007

2. A new calibration method for latent image fidelity;Barouch;Proc. SPIE,2008

3. Scatterometry as a practical in-situ metrology technology;Barouch;Proc. SPIE,2003

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Shadowing 3D mask effects in EUV;SPIE Proceedings;2012-06-30

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