Influence of Gas Pressure on Sputtering Deposition of Epitaxial BaTiO3 Thin Films
Author:
Affiliation:
1. Corporate R&D Center, Toshiba Corporation
Publisher
Institute of Electrical Engineers of Japan (IEE Japan)
Subject
Electrical and Electronic Engineering,Mechanical Engineering
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/ieejsmas/122/2/122_2_103/_pdf
Reference25 articles.
1. (1) K. Abe, N. Yanase and T. Kawakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 40 (2001) 2367.
2. (2) T. Yasumoto, N. Yanase, K. Abe, N. Fukushima and T. Kawakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 5369.
3. (3) K. Abe, N. Yanase and T. Kawakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 39 (2000) 4059.
4. (4) N. Yanase, K. Abe, N. Fukushima and T. Kawakubo: Jpn. J. Appl. Phys. 38 (1999) 5305.
5. (5) K. Abe and S. Komatsu: Jpn. J. Appl. Phys. 77 (1995) 6461.
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