Wpływ materiału maskującego na jakość odwzorowania w procesie suchego trawienia węglika krzemu 4H-SiC w plazmie chlorowej
-
Published:2019-10-05
Issue:10
Volume:1
Page:160-163
-
ISSN:0033-2097
-
Container-title:PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY
-
language:en
-
Short-container-title:ELECTROTECHNICAL REVIEW
Author:
STONIO Bartłomiej
Publisher
Wydawnictwo SIGMA-NOT, sp. z.o.o.
Subject
Electrical and Electronic Engineering