Wpływ reaktywnego trawienia jonowego wspomaganego plazmą BCl3 na jakość powierzchni węglika krzemu 4H-SiC
-
Published:2019-09-05
Issue:9
Volume:1
Page:177-179
-
ISSN:0033-2097
-
Container-title:PRZEGLĄD ELEKTROTECHNICZNY
-
language:en
-
Short-container-title:ELECTROTECHNICAL REVIEW
Author:
STONIO Bartłomiej
Publisher
Wydawnictwo SIGMA-NOT, sp. z.o.o.
Subject
Electrical and Electronic Engineering