ION IMPLANTATION SYSTEM CONCEPTS-Reference-Cited by-同舟云学术

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ION IMPLANTATION SYSTEM CONCEPTS

Published:1984 Issue: Volume: Page:313-373
ISSN:
Container-title:Ion Implantation Science and Technology
language:
Short-container-title:

Author:

Glawischnig Hans,Noack Klaus

Publisher

Elsevier

Reference45 articles.

1. A new ion source for electromagnetic isotope separators

2. Thermal Conductivity of Silicon from 300 to 1400°K

3. Silicon Semiconductor Technology;Runyan,1965

4. Experimental study of an ion source for electromagnetic isotope separation with a view to high efficiency operation

5. J. R. J. Bennett, Proc. Int. Conf. on Ion Sources, I. N. S. T. N., Saclay (1969) 571.

Cited by 3 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Integrated Circuits;Encyclopedia of RF and Microwave Engineering;2005-04-15

2. Doping technology;Technology of Integrated Circuits;2000

3. Dotiertechnik;Halbleiter-Elektronik;1988

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