Plasma confinement technology of Facing Targets Sputtering Systems for large scale mass production coaters
Author:
Publisher
Elsevier
Reference10 articles.
1. Ultra high density media: gigabit and beyond
2. H. Yoshimoto, K. Kuga, E. Miyashita, N. Hayashi, T. Nakayama, Y. Yoneda and J. Numazawa : Proc. Tech. Exh. & Pap. NHK Sci. & Tech. Res. Labs. pp.40–45(1993)
3. Microstructure and Tribological Properties OF Co-Cr thin Films Deposited by Facing Targets Sputtering and Magnetron Sputtering Methods
4. Plasma effects on the Co-Cr deposition in opposing targets sputtering method
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