Dislocation structure in coarse-grained copper after ion implantation

Author:

Sharkeev Yu.P.,Girsova N.V.,Ryabchikov A.I.,Kozlov E.V.,Perevalova O.B.,Brown I.G.,Yao X.Y.

Publisher

Elsevier

Reference11 articles.

1. High dislocation density structures and hardening produced by high fluency pulsed-ion-beam implantation

2. Yu.V. Martunenko, Puchki Zaryazhennuh Chastits i Tverdoe Telo, in: Itogi Nauki i Tehniki vol. 7, (Moscow, 1993) pp. 82–112.

3. Microstructure of the near-surface layers of ion-implanted polycrystalline Cu

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