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Silicide-induced stress in Si: origin and consequences for MOS technologies

  • Published:2002-06 Issue:1 Volume:38 Page:1-53
  • ISSN:0927-796X
  • Container-title:Materials Science and Engineering: R: Reports
  • language:en
  • Short-container-title:Materials Science and Engineering: R: Reports

Author:

Steegen An,Maex Karen

Publisher

Elsevier BV

Subject

Mechanical Engineering,Mechanics of Materials,General Materials Science

Reference50 articles.

1. Simply irresistible silicides;Maex;Phys. World,1995

2. K. Maex, M. Van Rossum, Properties of Metal/Silicides, Emis Datareview Series no. 14, INSPEC, 1995.

3. M.-A. Nicolet, S.S. Lau, in: N.G. Einspruch, G.B. Larrabee (Eds.), VLSI Electronics Microstructure Science, Academic Press, New York, 1983.

4. Silicides for integrated circuits: TiSi2 and CoSi2;Maex;Mater. Sci. Eng.,1993

5. Mechanical properties of thin films

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