Radiation effects on multi-channel Forksheet-FET and Nanosheet-FET considering the bottom dielectric isolation scheme

Author:

Choi GunheeORCID,Jeon Jongwook

Publisher

Elsevier BV

Reference24 articles.

1. Cramming more components onto integrated circuits;Moore;Proc. IEEE,1998

2. Design of ion-implanted MOSFET's with very small physical dimensions;Dennard;IEEE J. Solid State Circ.,1974

3. Stacked Nanosheet gate-all-around transistor to enable scaling beyond FinFET;Loubet,2017

4. Benchmarking of FinFET, Nanosheet, and nanowire FET architectures for future technology nodes;Nagy;IEEE Access,2020

5. Bottom dielectric isolation to suppress sub-fin parasitic channel of vertically-stacked horizontal gate-all-around Si nanosheets devices;Cao,2022

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