Glow discharge ion plating technology-Reference-Cited by-同舟云学术

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Glow discharge ion plating technology

Published:2023 Issue: Volume: Page:115-135
ISSN:
Container-title:Modern Ion Plating Technology
language:
Short-container-title:

Author:

Wang Fuzhen,Wu Junwei

Publisher

Elsevier

Reference23 articles.

1. Metallizing ceramics using a gas discharge;Mattox;Journal of the American Ceramic Societ,1965

2. Handbook of physical vapor deposition (PVD) Processing;Mattox,2010

3. Grain structure of ion-plated coatings;Teer;Thin Solid Films,1978

4. Adhesion of ion plated films and energies of deposition;Teer;Adhesion,1977

5. Electrovacuum physics (in Chinese);Wei,1961

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Functional modification of TC4 by Cu-containing titanium dioxide films;Ceramics International;2024-09

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