Mass and energy distribution of negatively and positively charged small cluster ions sputtered from GaAs(100) by 150 keV Ar + bombardment

Author:

Angelin E.J.,Hippler R.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Instrumentation,Nuclear and High Energy Physics

Reference56 articles.

1. R. Hippler, In: Low Temperature Plasmas (R. Hippler, H. Kersten, M. Schmidt, K.H. Schoenbach, Eds.), Wiley-VCH Verlag Weinheim, (2008) p. 71.

2. K. Ellmer, In: Low Temperature Plasmas (R. Hippler, H. Kersten, M. Schmidt, K.H. Schoenbach, Eds.), Wiley-VCH Verlag Weinheim, (2008) p. 675.

3. Theory of Sputtering. I. Sputtering Yield of Amorphous and Polycrystalline Targets

4. Nucl. Instr. Meth. Phys. Res. B 27 (1987) 1.

5. R. Behrisch, W. Eckstein (Eds.), Sputtering by Particle Bombardment, Experiments and Computer Calculations from Threshold to MeV Energies, Springer Series: Topics in Applied Physics, Vol. 110 (2007).

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