Electrical transport properties of Ru Ti O2 films deposited by magnetron sputtering technique
Author:
Funder
École Polytechnique Fédérale de Lausanne
Publisher
Elsevier BV
Subject
Materials Chemistry,Condensed Matter Physics,General Chemistry
Reference45 articles.
1. Electronic structure of RuO2, OsO2 and IrO2;Mattheiss;Phys. Rev. B,1976
2. Electrical transport properties of IrO2 and RuO2;Ryden;Phys. Rev.,1970
3. Optical properties of single-crystal rutile RuO2 and IrO2 in the range 0.5 to 9.5 eV;Goel;Phys. Rev. B,1981
4. Electrocatalytic properties of transition metal oxides for oxygen evolution reaction;Matsumoto;Mater. Chem. Phys.,1986
5. Electrocatalysis in the anodic evolution of oxygen and chlorine;Trasatti;Electrochim. Acta,1984
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