CoSi2 formation using Ti-capping layer
Author:
Publisher
Elsevier BV
Subject
Materials Chemistry,Inorganic Chemistry,Condensed Matter Physics
Reference22 articles.
1. Silicides and ohmic contacts
2. M. Lawrence, A. Dass, David B. Fraser, Chih-Shih Wei, Appl. Phys. Lett. 58 (1991) 1308.
3. Silicide formation by concentration controlled phase selection
4. Characterization of a Self‐Aligned Cobalt Silicide Process
5. Yongjae Kwon, Chongmu Lee, Thin Solid Films 380 (2000) 127.
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