General problems of high resolution lithography

Author:

Mladenov Georgy M.,Seyfarth Harald

Publisher

Elsevier BV

Subject

Surfaces, Coatings and Films,Condensed Matter Physics,Instrumentation

Reference14 articles.

1. Electron Beam Technology in Microelectronic Fabrication;Brewer,1980

2. Dry development of ion beam exposed PMMA resist

3. G Mladenov, V Orlinov and R Dimitrova, Bulgarian patent No 19539 (1974).

4. Self‐developing resist with submicrometer resolution and processing stability

5. Proc Third Microelectronics Conf of the Soc Countries;Valiev,1982

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