Microwave Plasma Disk Processing Machines-Reference-Cited by-同舟云学术

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Microwave Plasma Disk Processing Machines

Published:1995 Issue: Volume: Page:251-311
ISSN:
Container-title:High Density Plasma Sources
language:
Short-container-title:

Author:

Asmussen Jes

Publisher

Elsevier

Reference78 articles.

1. Handbook of Plasma Processing Technology;Asmussen,1990

2. Electron cyclotron resonance microwave discharges for etching and thin‐film deposition

3. Asmussen, J., and Root, J., U. S. Patent No. 4,507,588 (26 March 1985)

4. Asmussen, J., and Reinhard, D. K., U. S. Patent No. 4,585,688 (29 April 1986)

5. Asmussen, J., and Reinhard, D. K., U. S. Patent No. 4,630,566 (23 Dec. 1986)

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Studies of pulsed and continuous microwave discharges used to deposit diamond films;Plasma Physics Reports;2005-04

2. Plasma Fundamentals for Materials Processing;Handbook of Advanced Plasma Processing Techniques;2000

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