Formation de polymères dans une décharge radio fréquence: influence de la densité électronique
Author:
Publisher
Elsevier BV
Subject
Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials
Reference26 articles.
1. Insulator thin films formed by glow discharge and radiation techniques
2. PRODUCTION OF ORGANIC SURFACE FILMS BY THE ACTION OF ELECTRONS, ULTRAVIOLET RADIATION, AND THE GLOW DISCHARGE
3. Glow discharge polymerization—III. Allyl alcohol and crotyl alcohol
4. Glow discharge polymerization—I. Rates and mechanisms of polymer formation
5. Polymerization in radio frequency glow discharges—I
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1. Plasma Deposition of Inorganic Thin Films;Annual Review of Materials Science;1979-08
2. A kinetic model for radio frequency plasma-activated chemical vapour deposition;Thin Solid Films;1978-01
3. Formation de dépôts de nitrure de silicium en couche mince obtenus par réaction chimique dans une décharge R.F. Basse pression;Thin Solid Films;1976-06
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