Dielectric properties of anodized Al-Ta alloy films with high Al content

Author:

Schauer A.,Roschy M.,Juergens W.

Publisher

Elsevier BV

Subject

Materials Chemistry,Metals and Alloys,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference11 articles.

1. Trans. MRC-Sputtering Conf.;Duckworth,1969

2. Electrical and Structural Properties of Co-Sputtered Tantalum–Aluminum Films

3. Proc. Electronic Components Conf.;Huber,1971

4. Electrochem. Soc. Spring Meeting;Sitarik,1971

5. Proc. Electronic Components Conf.;Schauer,1973

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