In-depth profiles of phosphorus ion-implanted silicon by Auger spectroscopy and secondary ion emission
Author:
Publisher
Elsevier BV
Subject
Materials Chemistry,Surfaces, Coatings and Films,Surfaces and Interfaces,Condensed Matter Physics
Reference10 articles.
1. Tenth Natl. Meeting of Soc. Applied Spectroscopy;Morabito,1971
2. Tenth Ann. Varian Vacuum Technol. Seminar;Morabito,1972
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