1. E.D. Weil, US Patent 71-187575; Chem. Abstr., 79, 93054q.
2. M. Fujimatsu and M. Miura, Japanese Patent 86-250155; Chem. Abstr., 110, 9644k.
3. S.W. Lee, I. Park and J.C. Jung, Pollimo, II, 572; Chem. Abstr., 109, 38339z.
4. T. Imaî, S. Nochimori and S. Kimura, Japanese Patent 84109575; Chem. Abstr., 105, 25409q.