Resists for X-ray Lithography
Author:
Publisher
Elsevier
Reference15 articles.
1. Performance optimization of the chemically amplified radiation resist RAY-PF;Ballhorn;Microelectron. Eng.,1991
2. High speed x-ray positive resist suitable for precise replication of sub-quartermicron patterns;Ban;J. Vac. Sci. Technol.,1994
3. The lithographic process: the physics;Bowden,1994
4. 50nm x-ray lithography using synchrotron radiation;Chen;J. Vac. Sci. Technol.,1994
5. Extendibility of synchrotron radiation lithography to the sub-100nm region;Deguchi;J. Vac. Sci. Technol.,1996
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