Ab initio calculation on the low-lying excited states of BCl radical

Author:

Liu Yufang,Zhang Xiaomei,Yu Kun

Publisher

Elsevier BV

Subject

Physical and Theoretical Chemistry,Condensed Matter Physics,Biochemistry

Reference23 articles.

1. Feed gas purity and environmental concerns in plasma etching;Flamm;Solid State Technol.,1993

2. Dry etching characteristics of III–V semiconductors in microwave BCl3 discharges;Patron;Plasma Chem. Plasma Proc.,1993

3. Molecular Spectra and Molecular Structure IV: Constants of Diatomic Molecules;Huber,1979

4. Infrared spectrum of boron chloride (BCl);Maki;J. Mol. Spectrosc.,1982

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