Selective Epitaxial Growth and Device Application of Strain-Engineered Ge on Si
Author:
Affiliation:
1. Materials Engineering, Graduate School of Engineering, The University of Tokyo
Publisher
Laser Society of Japan
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/lsj/42/3/42_235/_pdf
Reference29 articles.
1. 1) J. Liu, R. Camacho-Aguilera, J. T. Bessette, X. Sun, X. Wang, Y. Cai, L. C. Kimerling, and J. Michel: Thin Solid Films 520 (2011) 8.
2. 2) G. Masini, L. Colace, G. Assanto, H. C. Luan, K. Wada, and L. C. Kimerling: Electron. Lett. 35 (1999) 17.
3. 3) Y. Ishikawa, K. Wada, D. D. Cannon, J. Liu, H.-C. Luan, and L. C. Kimerling: Appl. Phys. Lett. 82 (2003) 2044.
4. 4) Y. Ishikawa, K. Wada, J. Liu, D. D. Cannon, H.-C. Luan, J. Michel, and L. C. Kimerling: J. Appl. Phys. 98 (2005) 013501.
5. 5) A. Novack, M. Gould, Y. Yang, Z. Xuan, M. Streshinsky, Y. Liu, G. Capellini, A. Eu-Jin Lim, G.-Q. Lo, T. Baehr-Jones, et al.: Opt. Express 21 (2013) 28393.
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