Adsorption and Desorption of Photoresist with Pluronic Surfactant:
Author:
Affiliation:
1. Department of Pure and Applied Chemistry, Faculty of Science and Technology, Tokyo University of Science
2. Nomura Micro Science Co., Ltd.
Publisher
Japan Society of Colour Material
Subject
Earth-Surface Processes
Link
https://www.jstage.jst.go.jp/article/shikizai/95/3/95_72/_pdf
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