1. K. Bergmann, O. Rosier, W. Neff, R. Lebert, Appl. Opt. 39, 3833 (2000)
2. J.V. Hermans, D. Laidler, C. Pigneret, A.V. Dijk, O. Voznyi, M. Dusa, E. Hendrickxa, Conference on Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography II (2011), Vol. 7969, p. 79691M
3. C. Zaczek, S. Müllender, H. Enkisch, F. Bijkerk, Conference on Advances in Optical Thin Films III (2008), Vol. 7101, p. 71010X
4. M.A. Klosner, W.T. Silfvast, Opt. Lett. 23, 1609 (1998)
5. K. Nowakowska-Langier, L. Jakubowski, E. Baronova, K. Czaus, M. Rabinski, M.J. Jakubowski, Eur. Phys. J. D 54, 377 (2009)