1. K. Harada, O. Kamimura, H. Kasai, T. Matsuda, A. Tonomura, Advanced Research Laboratory, Hitachi, Ltd., Hatoyama, Saitama 350-03, Japan.
2. V. V. Moshchalkov, Laboratorium voor Vaste-Stoffysica en Magnetisme, Katholieke Universiteit Leuven, B-3001 Leuven, Belgium.