Modeling of hot-carrier degradation based on thorough carrier transport treatment
Author:
Affiliation:
1. Institute for Microelectronics, Vienna, Austria + A.F. Ioffe Physical-Technical Institute, St. Petersburg, Russia
2. Institute for Microelectronics, Vienna, Austria
Abstract
Publisher
National Library of Serbia
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1. A review of DC extraction methods for MOSFET series resistance and mobility degradation model parameters;Microelectronics Reliability;2017-02
2. Annealing influence on recovery of electrically stressed power vertical double-diffused metal oxide semiconductor transistors;Japanese Journal of Applied Physics;2015-05-08
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