Abstract
Одна из важных задач современной фотоники - это реализация новых высокоэффективных
фотонных устройств, работа которых основана на взаимодействии света с наноструктурами [1].
Диэлектрические наноструктуры с высоким показателем преломления поддерживают
высокодобротные электрические и магнитные резонансы в видимой части спектра [2].Такие
диэлектрические нанорезонаторы обладают уникальными свойствами и перспективны для создания
на их основе универсальных модулей для управления светом на наномасштабе. Микромассивы,
упорядоченных в квадратную решетку, кремниевых нанопилларов (Si НП, от англ. nanopillarнаностолбик) в последние годы привлекают значительный интерес исследователей как один из
перспективных вариантов реализации подобных резонансных наносистем [3]. Большинство работ в
этой области направлено на исследование изолированных Si НП в воздухе или Si НП, размещенных
на подложке с низким показателем преломления, например, на кварцевой подложке [4]. Однако, для
многих практических приложений, в частности, для фотовольтаических элементов, Si НП
необходимо размещать поверх материала с высоким показателем преломления.
В данной работе были экспериментально и
теоретически исследованы спектральные
характеристики отражения микромассивов Si НП на
подложке кремний-на-изоляторе (КНИ) с целью
определения связи между геометрическими
параметрами структур и особенностями резонансного
отражения света от них, выявления факторов,
влияющих на подавление распространения волны
внутри подложки, и устранения дифракционных
эффектов утечки мод в подложку.
В работе было проведено численное моделирование
отражательных характеристик Si НП с учетом
подложки, демонстрирующее характер зависимости
резонансных особенностей структуры от её
геометрических параметров, а также с учетом подложки
КНИ. Исходя из полученных результатов численных
оценок, были сформированы микромассивы Si НП
различного диаметра и периода в квадратной матрице
на КНИ подложке. В рамках экспериментального
исследования были измерены спектры отражения от
различных микромассивов Si НП в диапазоне длин волн от 400 нм до 1000 нм. Нормировка сигнала
проводилась на сигнал от алюминиевого зеркала. В спектрах отражения наблюдались узкие
резонансные линии, которые связаны с интерференционными явлениями в верхнем слое кремния, а
также с решеточными резонансами.
Publisher
Rzhanov Institute Semiconductor Physics SB RAS