TEM-Zielpräparation unter REM-Beobachtung mittels Zweistrahl-FIB

Author:

Altmann Frank1

Affiliation:

1. Fraunhofer - Institut für Werkstoffmechanik Halle, Heideallee 19, D-06120 Halle E-Mail:

Abstract

Kurzfassung Die Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) ist eine wichtige Untersuchungsmethode und wird industriell zunehmend für die Charakterisierung der stetig kleiner werdenden Strukturen mikroelektronischer Bauelemente eingesetzt. Die dafür notwendige Zielpräparation wird im wesentlichen mittels fokussierender Ionenstrahltechnik (focused ion beam, FIB) durchgeführt, wobei die Anforderungen an Präzision und Qualität der hergestellten TEM-Proben ständig wachsen. Insbesondere spezielle TEM-Techniken, wie Elektronenenergieverlustspektroskopie (electron energy loss spectroscopy, EELS) und höchstauflösende TEM aber auch scanning-TEM (STEM) im Rasterelektronenmikroskop (REM) erfordern geringste Probendicken bei minimaler FIB-Strahlschädigung. Mit der Möglichkeit einer REM-Beobachtung der FIB-Bearbeitung in modernen Zweistrahl-FIB-Anlagen können TEM-Proben noch präziser als bisher zielpräpariert werden.

Publisher

Walter de Gruyter GmbH

Subject

Metals and Alloys,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Reference9 articles.

1. High Resolution Focused Ion Beams: FIB and its Applications

2. Future Fab Intl,2003

3. Prakt. Metallogr.,2002

Cited by 2 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Surface amorphization, sputter rate, and intrinsic stresses of silicon during low energy Ga+ focused-ion beam milling;Nuclear Instruments and Methods in Physics Research Section B: Beam Interactions with Materials and Atoms;2009-09

2. TEM-Präparation mittels „low-voltage“-FIB;Practical Metallography;2006-08-01

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