Metallographische Präparation von dotiertem Tantal für licht- und rasterelektronenmikroskopische Mikrostrukturuntersuchungen-Reference-Cited by-同舟云学术

Metallographische Präparation von dotiertem Tantal für licht- und rasterelektronenmikroskopische Mikrostrukturuntersuchungen

Published:2006-12-01 Issue:12 Volume:43 Page:614-628
ISSN:2195-8599
Container-title:Practical Metallography
language:en
Short-container-title:

Author:

Mayer Svea¹,Pölzl Silvia¹,Hawranek Gerhard¹,Bischof Michael¹,Scheu Christina¹,Clemens Helmut¹,Knabl Wolfram²

Affiliation:

1. Montanuniversität Leoben, Department Metallkunde und Werkstoffprüfung, Franz-Josef-Straße 18, 8700 Leoben, Österreich

2. PLANSEE Aktiengesellschaft, Hochleistungswerkstoffe, Entwicklung Hochschmelzende Metalle, 6600 Reutte, Österreich

Abstract

Kurzfassung Dünne kornwachstumsresistente Tantaldrähte werden zur Herstellung von elektrischen Tantalkondensatoren verwendet. Um den Herstellungsprozess zu optimieren, ist es wichtig, die Mikrostruktur von dotiertem Tantal nach unterschiedlichen Herstell- bzw. Wärmebehandlungsschritten zu untersuchen. Dies setzt jedoch voraus, dass eine geeignete artefaktfreie Präparationsmethode für dotiertes Tantal vorliegt, beziehungsweise die bestehenden Methoden verbessert werden. In der vorliegenden Arbeit werden optimierte Präparationsmethoden für licht- und rasterelektronenmikroskopische Untersuchungen vorgestellt. Neben der Beschreibung der Probenpräparation wird auch auf die wichtigsten Ergebnisse der anschließenden mikrostrukturellen Untersuchungen eingegangen.

Publisher

Walter de Gruyter GmbH

Subject

Metals and Alloys,Mechanics of Materials,Condensed Matter Physics,Electronic, Optical and Magnetic Materials

Link

https://www.degruyter.com/document/doi/10.3139/147.100322/pdf

Reference11 articles.

1. Z. Metallkunde,2004