Author:
Lê Vũ Nam ,Mai Nguyệt Công
Abstract
Cách tử 2D bước dài có rất nhiều ứng dụng quan trọng, đặc biệt trong hệ thống đo lường chính xác. Phương pháp vân giao thoa và khắc bằng tia ion truyền thống khi chế tạo loại cách tử này còn gặp vấn đề về hệ thống phơi sáng. Bài báo này trình bày quy trình từ nghiên cứu đến thiết kế, chế tạo một loại cách tử 2D có bước 5 μm để sử dụng trong một hệ thống đo lường đa chiều. Trong đó, căn cứ yêu cầu sử dụng, trình độ gia công và sử dụng phần mềm ETA để thiết kế, lựa chọn ra tham số chi tiết cách tử. Lựa chọn một hệ thống phơi sáng mới để giải quyết vấn đề các hệ thống cũ gặp phải khi chế tạo cách tử bước dài. Thông qua phân tích và tính toán để điều chỉnh hệ thống, tối ưu quang sai giao thoa để tối ưu sai số đường cách tử. Từ đó, chúng tôi đã hoàn thành việc thiết kế và chế tạo ra một cách tử 2D với sai số đường cách tử đạt tới 0,03 λ trong phạm vi 65 mm × 65 mm, các thông số đều đảm bảo yêu cầu.
Publisher
Academy of Military Science and Technology