Nghiên cứu chế tạo vật liệu HgZn3 ứng dụng làm điện cực cho pin thủy ngân oxit-kẽm

Author:

Nguyễn Văn Bằng,Phùng Khắc Nam Hồ,Trần Văn Chinh,Nguyễn Văn Tú,Nguyễn Thị Hoài Phương

Abstract

Pin thủy ngân oxit-kẽm trong môi trường kiềm là pin điện hóa sơ cấp được ứng dụng trong nhiều lĩnh vực khoa học công nghệ, y tế, thiết bị hiện trường,… Để tăng độ bền chống ăn mòn điện cực trong môi trường kiềm cũng như tăng hiệu hiệu suất phóng và dung lượng của pin, kẽm cần được hỗn hống hóa. Bài báo này giới thiệu kết quả nghiên cứu chế tạo và đánh giá đặc trưng của vật liệu HgZn3. Vật liệu được đặc trưng bằng phương pháp nhiễu xạ tia X (XRD), phổ tán xạ năng lượng tia X (EDX), kính hiển vi điện tử (SEM). Kết quả nghiên cứu cho thấy tỷ lệ khối lượng Zn :HgCl2 phản ứng cho sản phẩm hốn hống tốt nhất để làm điện cực âm của pin thuỷ ngân oxit-kẽm là 3:1. Vật liệu có độ tinh thể cao, hàm lượng Hg khoảng 10,8% về khối lượng. Pin xả xuống tới điện áp 0,9 V trong khoảng 209 giờ đạt dung lượng 2823 mAh.

Publisher

Academy of Military Science and Technology

Reference16 articles.

同舟云学术

1.学者识别学者识别

2.学术分析学术分析

3.人才评估人才评估

"同舟云学术"是以全球学者为主线,采集、加工和组织学术论文而形成的新型学术文献查询和分析系统,可以对全球学者进行文献检索和人才价值评估。用户可以通过关注某些学科领域的顶尖人物而持续追踪该领域的学科进展和研究前沿。经过近期的数据扩容,当前同舟云学术共收录了国内外主流学术期刊6万余种,收集的期刊论文及会议论文总量共计约1.5亿篇,并以每天添加12000余篇中外论文的速度递增。我们也可以为用户提供个性化、定制化的学者数据。欢迎来电咨询!咨询电话:010-8811{复制后删除}0370

www.globalauthorid.com

TOP

Copyright © 2019-2024 北京同舟云网络信息技术有限公司
京公网安备11010802033243号  京ICP备18003416号-3