ВЛИЯНИЕ КАТАЛИЗАТОРА ТЕРМООТВЕРЖДЕНИЯ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОРЕЗИСТА, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"-Reference-Cited by-同舟云学术

ВЛИЯНИЕ КАТАЛИЗАТОРА ТЕРМООТВЕРЖДЕНИЯ В АНТИОТРАЖАЮЩЕМ ПОКРЫТИИ НА ПРОФИЛЬ ЭЛЕМЕНТОВ ФОТОРЕЗИСТА, "Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника"

Published:2021 Issue:4 Volume: Page:69-71
ISSN:2410-9932
Container-title:Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника
language:ru
Short-container-title:Электронная техника. Серия 3. Микроэлектроника

Author:

Кузнецова Н.А.¹,Малимоненко Н.В.¹,Билданов М.А.²,Варламов Д.А.³,Грибов Б.Г.³

Affiliation:

1. ФГУП «ГНЦ “НИОПИК”»

2. АО «Микрон»

3. АО «НИИМЭ»

Abstract

Исследовано влияние концентрации в антиотражающем покрытии кислотного (п-толуолсульфокислота) и нейтрального (триэтиламмониевая соль додецилбензолсульфокислоты) катализаторов сшивки полимерного связующего на профиль элементов фоторезиста.

Publisher

Akademizdatcenter Nauka

Reference18 articles.

1. S.-Y. Kim, Y.-S. Kim. Trans. // Electrical and Electronic Materials, 2014. Vol. 15. No. 3, pp. 159–163.

2. Sheats J.R., Smith B.W. // Microlithography: Science and Technology (New York: Marcel Dekker) 1998.

3. DUV Anti-Reflective Coatings. Brewer Science, Inc. https://docplayer.net/64102583-Duv-anti-reflectivecoatings-brewer-science-inc.html (дата обращения 09.11.2021).

4. US Patent 8647 810 B2 (2014).

5. US Patent 8895 226 B2 (2014).