Ballistic transport and reaction modeling of atomic layer deposition manufacturing processes

Author:

Adomaitis Raymond A

Publisher

Elsevier BV

Subject

General Medicine

Reference13 articles.

1. Development of a multiscale model for an atomic layer deposition process;Adomaitis;J. Crystal Growth,2010

2. A ballistic transport and surface reaction model for simulating atomic layer deposition processes in high aspect-ratio nanopores;Adomaitis,2011

3. Free molecular transport and deposition in cylindrical features;Cale;J. Vac. Soc. Technol. B,1990

4. Flux distributions in low pressure deposition and etch models;Cale;J. Vac. Soc. Technol. B,1991

5. Modeling the conformality of atomic layer deposition: The effect of sticking probability;Dendoven;J. Electrochem. Soc,2009

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