Affiliation:
1. 1Physikalisch-chemischen Institut der Universität München
Abstract
AbstractIm experimentellen Teil der Arbeit wurden an unlegierten und mit Kupfer legierten Germaniumpräparaten, welche im Hochvakuum gegossen worden waren, Leitfähigkeitund Hall-Effekt-Messungen durchgeführt. Dabei wurde an dem reinsten Germaniumpräparat mit einem Verunreinigungsgehalt von ungefähr 10-3 Gew.-% der spezif. Widerstand ϱ = 0,86 Ω cm und die Hall-Konstante R = 2000 cm3/Amp. sec gefunden, woraus sich eine Elektronenkonzentration von n = 3-1015cm-3 und eine Elektronenbeweglichkeit b = 2000 cm sec-1/Volt cm-1 errechnet. Für die Präparate mit einem Fremdstoffgehalt < 0,1 Gew.-% ist die Elektronenbeweglichkeit konstant und nimmt obigen Wert an, so daß die Leitfähigkeit in diesem Bereich nur noch von der Elektronenkonzentration abhängig ist, welche ihrerseits wieder als dem Fremdstoffgehalt proportional erscheint. Für reinstes Germanium ist demnach ein um Größenordnungen höherer Widerstand als der hier gemessene zu erwarten. Im theoretischen Teil der Arbeit wird gezeigt, wie die aus den Messungen gefundene außerordentlich hohe Beweglichkeit im Sinne der wellenmechanischen Metalltheorie zu deuten ist.
Subject
Physical and Theoretical Chemistry,General Physics and Astronomy,Mathematical Physics
Cited by
8 articles.
订阅此论文施引文献
订阅此论文施引文献,注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献,订阅后可以查看论文全部施引文献
1. Twenty five years of semiconductor-grade silicon;Physica Status Solidi (a);1981-03-16
2. From Solid State Research to Semi-Conductor Electronics;Annual Review of Materials Science;1979-08
3. Fehlordnung und elektrisches Verhalten der Ionen-und Valenzkristalle;Anorganische und allgemeine Chemie in Einzeldarstellungen;1966
4. Fehlordnung und elektrisches Verhalten der Ionen- und Valenzkristalle;Reaktionen in und an Festen Stoffen;1955
5. On the diffusion theory of rectification;Proceedings of the Royal Society of London. Series A. Mathematical and Physical Sciences;1952-06-24