Eine Elektroneninterferenzapparatur für Feinstrukturuntersuchungen

Author:

Ehlers Horst1

Affiliation:

1. Aus dem Institut für Angewandte Physik der Universität Hamburg

Abstract

Es wird eine Feinstrahlapparatur zur Beobachtung von Elektroneninterferenzen beschrieben, bei der zur Erzielung hoher Auflösung mittels zweier elektromagnetischer Linsen der Strahlquerschnitt am Ort der Photoplatte sehr stark reduziert wird. Theoretische Betrachtungen und experimentelle Untersuchungen zeigen, daß die Größe des Durchmessers des vom Elektronenstrahl auf der Photoplatte ohne Objektdurchstrahlung aufgezeichneten Bildpunktes einen durch die Eigenschaften der photographischen Schicht bestimmten Wert von einigen μ nicht unterschreitet. Mit Objekt ist im allgemeinen bei der beschriebenen Apparatur für die Größe des Durchmessers der Interferenzpunkte die Kristallitgröße des Objektes maßgebend.

Publisher

Walter de Gruyter GmbH

Subject

Physical and Theoretical Chemistry,General Physics and Astronomy,Mathematical Physics

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1. Kristallgitter-Strukturen;Vierter Internationaler Kongress für Elektronenmikroskopie / Fourth International Conference on Electron Microscopy / Quatrième Congrès International de Microscopie Électronique;1960

2. Über die Genauigkeit von Gitterkonstantenmessungen mit Elektroneninterferenzen;Verhandlungen;1960

3. The intensity profiles of electron diffraction lines;Philosophical Magazine;1958-10

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