Laser diagnostics of plasma etching: Measurement of Cl+2 in a chlorine discharge

Author:

Donnelly V. M.,Flamm D. L.,Collins G.

Publisher

American Vacuum Society

Subject

General Engineering

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1. Hydrodynamic model of a dielectric-barrier discharge in pure chlorine;Plasma Physics Reports;2017-08

2. Etching: Endpoint Detection;Encyclopedia of Plasma Technology;2016-12-12

3. Laser Spectroscopy;Kinetics and Spectroscopy of Low Temperature Plasmas;2016

4. A current driven capacitively coupled chlorine discharge;Plasma Sources Science and Technology;2014-03-26

5. Real-time characteristic impedance monitoring for end-point and anomaly detection in the plasma etching process;Japanese Journal of Applied Physics;2014-01-01

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