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Evolution of electron projection optics from variable axis immersion lenses to projection reduction exposure with variable axis immersion lenses

  • Published:2002 Issue:6 Volume:20 Page:2627
  • ISSN:0734-211X
  • Container-title:Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures
  • language:en
  • Short-container-title:J. Vac. Sci. Technol. B

Author:

Stickel W.,Pfeiffer H. C.,Golladay S. D.,Gordon M. S.

Publisher

American Vacuum Society

Subject

General Engineering

Cited by 1 articles. 订阅此论文施引文献 订阅此论文施引文献，注册后可以免费订阅5篇论文的施引文献，订阅后可以查看论文全部施引文献

1. Projection electron beam lithography for nanotechnology;Bulletin of the Russian Academy of Sciences: Physics;2010-07
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