1. H. Morkoc, T. Henderson, W. Kopp, and C. K. Peng, Electron. Lett.22, 578 (1986).
2. T. Henderson, M. I. Aksun, C. K. Peng, H. Morkoc, P. C. Chao, P. M. Smith, and K.-H. G. Duh, and L. F. Lester, IEEE Electron. Dev. Lett.EDL-7, 649 (1986).
3. S. H. Wemple, L. A. D’Asaro, H. Fukui, J. C. Irvin, H. M. Cox, J. V. DiLorenzo, J. C. M. Hwang, and W. O. W. Schlosser, “GaAs Power FET Design Principles, Fabrication Technologies, and Material Technology,” inGaAs FET Principles and Technology, J. V. DiLorenzo and D. D. Khandelwal, editors (Artech House, Dedham, MA, 1982). pp. 279–306.
4. H. Baratte, P. M. Solomon, D. C. LaTulipe, T. N. Jackson, D. J. Frank, and S. L. Wright, IEEE Electron. Dev. Lett.EDL-8, 486 (1987).
5. S. Adachi and S. Yamahata, Appl. Phys. Letts.51,1265 (1987).