Approximation to the two-step diffusion profile by a series of gaussian functions
Author:
Publisher
Springer Science and Business Media LLC
Subject
General Materials Science,General Chemistry
Link
http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/BF01210347.pdf
Reference6 articles.
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1. An investigation of the diffusion of silicon in delta‐doped gallium arsenide, as determined using high‐resolution secondary ion mass spectrometry;Journal of Applied Physics;1991-07-15
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