Das Verhalten photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung (II)-Reference-Cited by-同舟云学术

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Das Verhalten photographischer Schichten bei Elektronenbestrahlung (II)

Published:1961 Issue: Volume: Page:182-197
ISSN:
Container-title:Mitteilungen aus den Forschungslaboratorien der Agfa Leverkusen-München
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Author:

Frieser H.,Klein E.,Zeitler E.

Publisher

Springer Berlin Heidelberg

Link

http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-3-662-22172-3_13

Reference18 articles.

1. Nissen, H. F.: Z. f. Physik 122, 573 (1944).

2. Neider, R.: Diplomarbeit Berlin 1954/55, Fritz-Haber-Institut der Max-Planck-Gesellschaft; Vortrag Darmstadt 1957, Tagung d. Dtsch. Ges. f. Elektronenmikroskopie.

3. FRiEser, H. u. E. Klein: Z. f. angew. Physik 10, 337 (1958);

4. Mitt. Agfa Bd. II, Berlin/ Göttingen/Heidelberg: Springer, 1958, 121.

5. Zeitler, E.: Mitt. Agfa Leverkusen-München Bd. II, Berlin/Göttingen/Heidelberg: Springer (1958), 217 u. Literaturangaben dort.

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