Analysis of Microscopic Areas on Wafer Surfaces Using STM/AFM
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Publisher
Springer Berlin Heidelberg
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-3-662-03535-1_16
Reference44 articles.
1. G. Binnig, H. Rohrer, Ch. Gerber, and E. Weibel: Phys. Rev. Lett. 50, 120 (1983).
2. G. Binnig, C.F. Quate, and Ch. Gerber: Phys. Rev. Lett. 56, 930 (1986).
3. K. Itaya, S. Sugawara, and K. Sashikata: J. Vac. Sci. Technol. A8, 3386 (1990).
4. R. S. Becker et al Phys. Rev. Lett. 55 2028 (1985).
5. R. S. Becker et al Phys. Rev. Lett. 55 2032 (1985).
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