Photochemistry in Electronics
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Publisher
Springer Netherlands
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http://link.springer.com/content/pdf/10.1007/978-90-481-3830-2_13
Reference68 articles.
1. Moore GE (1995) Lithography and the future of Moore’s law. Adv Resist Technol Process 2438:2
2. Burns K, Adams KB, Longwell J (1950) Interference measurements in the spectra of neon and natural mercury. JOSA 40:339–344
3. Miura K, Tomita Y (1978) Photo-sensitive bis-azide containing composition. US Patent 4,099,973
4. Haddleton DM, Creed D et al (1989) Photochemical crosslinking of main-chain liquid-crystalline polymers containing cinnamoyl groups. Makromol Chemie Rapid Commun 10:391–396
5. van Delft FC, Weterings JP, van Langen-Suurling AK et al (2000) Hydrogen silsesquioxane/novolak bilayer resist for high aspect ratio nanoscale electron-beam lithography. J Vac Sci Technol B Microelectron Nanometer Struct 18:3419
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