Strukturierungsmethoden

Author:

Frey Hartmut,Westkämper Engelbert,Hintze Bernd

Publisher

Springer Fachmedien Wiesbaden

Reference120 articles.

1. S. Büttgenbach, Mikromechanik, Stuttgart, Teubner (1994)

2. Harry J. Levinson: Principles of Lithography. 3. Auflage. SPIE Press, 2011, ISBN 978-0-8194-8324-9, S. 51.

3. Daniel P. Sanders: Advances in Patterning Materials for 193 nm Immersion Lithography. In: Chemical Reviews. Band 110, Nr. 1, 2010, S. 321–360, https://doi.org/10.1021/cr900244n.

4. Terasawa, T., N. Hasegawa, T. Tamaka, T. Somichi, K.: Improved resolution of an i-line Stepper using a phase-shifting mask. J. Vac. Sience Technology B8 (6) Nov./Dec. 1990

5. IBM Forschung zeigt Weg zur verlängerten Nutzung aktueller Chipherstellungsverfahren. IBM-Pressemitteilung, vom 20. Februar 2006.

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